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抛光液、研磨液

2014-12-27

1。氧化硅抛光液

简介

我们的氧化硅抛光液是由高纯硅粉经过先进技术所制成,可以被广泛应用于许多材料在纳米尺度的机械抛光,根据您的需要,我们可以提供各种粒度的相关产品,同时,根据PH,产品可以分为碱性和酸性。

规格

酸性

PH:3.0±0.1

ACI-1

ACI-2

ACI-3

ACI-4

ACI-5

碱性

PH:9.5±0.6

ALK-1

ALK-2

ALK-3

ALK-4

ALK-5

外观

半透明液体

重量

1.06±0.08

成分

包含

含量w%

Na2O

<0.2< p="">

SiO2

18~39

Impurity Content

<40ppb< p="">

应用范围

锗晶片抛光、硅片抛光、磷化铟抛光、蓝宝石衬底抛光、衬底抛光;
 光纤连接器抛光、玻璃抛光、CMP抛光液;

2.金刚石研磨液 

 

简介

我们的金刚石研磨液主要包括聚晶、单晶等不同类型。其主要包含优质金刚石微粉、分散剂、分散介质。针对不同的研抛操作和器件,其成分能够实现专业设计。产品分散性优良、粒度均匀、种类齐全、品质可靠。

应用范围
 LED衬底研磨、衬底毛片研磨液、衬底抛光液、蓝宝石窗口片研磨抛光;
 硬盘磁头研磨抛光、硬盘盘面研磨抛光;

3.普通研磨液
 简介
 除了上述两种抛光液之外,我们还可以提供其他类型的研磨液,像氧化铝、碳化硅研磨液,且可以根据您的需要调整其浓度和粒度。

规格

型号

粒度µm

磨料

含量wt%

GF-1

2。8

氧化铝

19

GF-2

2。6

碳化硅

22

应用范围
 手机玻璃面板研磨抛光、硬盘磁头研磨抛光、硬盘盘面研磨抛光;
 钛合金研磨、金属配件研磨

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